近日，分析测试中心在北区5号教学楼C105实验室完成了原位刻蚀与纳微分析测试系统（型号Scios 2 Hivac）的安装调试工作。

该系统核心优势为“原位一体化”，集成FIB刻蚀、SEM成像、EDS成分分析等模块，无需转移样品即可同步完成微区刻蚀与分析，避免污染、结构损伤及位置偏移；设备具备纳米级刻蚀精度与高分辨分析能力，可精准定位缺陷或功能区，解决微小区域表征难题，减少设备切换，大幅缩短测试周期。

该设备所测试样品兼容金属、半导体、生物材料等多类型；操作智能，依托自动定位与实时反馈功能，降低人为误差，数据可溯源，可为化学、物理、生物、材料、食品等学科提供高质量微区测试服务。

一审：张艳霞

二审：张婷婷

三审：全志勇